驍龍888一出來就打著安卓最強(qiáng)芯片的口號,在跑分和晶體管上,確實(shí)是要超過麒麟9000好多,但是實(shí)際上對比的時(shí)候,驍龍888依舊是功耗最大的一款芯片,升溫也是最快的。
這一點(diǎn)就能很好理解為什么小米11要設(shè)置一個(gè)4800毫安的大電池,并且把自己的無線充電技術(shù),以及快充技術(shù)搞到世界第一,小米手機(jī)能當(dāng)冬天的暖寶寶,不是沒有道理的。
異常升溫和功耗過快的問題,追溯下來,最后還是歸結(jié)到芯片上,iPhone12這邊,在網(wǎng)絡(luò)切換的時(shí)候,夜壺出現(xiàn)功耗加快的問題,有的用戶手機(jī)時(shí)間稍微長一點(diǎn)就會(huì)發(fā)熱,這并不是iPhone手機(jī)應(yīng)有的表現(xiàn)。
盡管如此也要比驍龍888好上許多,為驍龍888代工的三星成了這次翻車事件新的主體,三星真的有實(shí)力代工5nm芯片嗎?網(wǎng)友質(zhì)疑。
三星的5nm芯片工藝制程究竟表現(xiàn)如何:自家都在用
關(guān)于三星5nm工藝制程的質(zhì)量問題,既然三星用的都是自家的芯片,驍龍888的制造技藝也不該受到懷疑,但是三星3nm與3nmplus的工藝制程卻不得不讓讓人覺得是謊言。
在臺(tái)積電宣布3nm工藝制程的時(shí)候,三星緊急表示會(huì)跟上臺(tái)積電的步子,我們也有3nm芯片,盡管如此,臺(tái)積電3nm訂單接滿的時(shí)候,三星依舊沒有得到一個(gè)訂單。
三星與臺(tái)積電的差距是多大沒有人清楚,但是落后了臺(tái)積電一年左右的5nm工藝,竟然馬上就跟上了臺(tái)積電3nm的工藝制程,要知道,制造工藝可是一步步腳踏實(shí)地完成的。
另一方面,不管臺(tái)積電和三星的工藝制程有多么先進(jìn),他們經(jīng)手的5nm芯片全部翻車,依舊有不可推卸的責(zé)任,臺(tái)積電和三星擔(dān)心的是,這場芯片危機(jī)怎么度過,到了3nm的時(shí)候該這么辦。
芯片危機(jī)如何度過,需要多方面的努力
5nm芯片集體翻車,全都敗在了功耗和異常升溫上面,功耗上升、溫度提高,這種類似的事情,24nm芯片向20nm過渡的時(shí)候出現(xiàn)過,12nm,14nm向7nm過渡的時(shí)候也出現(xiàn)過。
這一次7nm向5nm過渡顯然還是失敗了,究竟該怎么辦,芯片危機(jī)本身的問題是芯片材料極限的問題,以及芯片內(nèi)部的排列和運(yùn)行問題,這三個(gè)問題都需要解決。
既然芯片材料出了問題,我們就改用碳基芯片;既然是芯片內(nèi)部晶體管的排列出了問題,那么芯片制造手藝也要改變,生產(chǎn)芯片專用的光刻機(jī)也要進(jìn)行升級改造,這樣才能全面解決這個(gè)問題。
對于臺(tái)積電和三星來說,他們可以用ASML最新的NA EUV 光刻機(jī),依靠自己手的3nm工藝制程去生產(chǎn)5nm芯片,隔代生產(chǎn),或許才是最好的選擇。
芯片危機(jī)的出現(xiàn),意味著摩爾定律的失效
關(guān)于芯片內(nèi)部運(yùn)行的問題,就只有采用光子芯片來解決了,但是采用光子芯片意味著指導(dǎo)了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)七八十年的摩爾定律將宣布失效,報(bào)道體進(jìn)入一個(gè)全新的發(fā)展階段。
光子芯片之前有提過,就是將芯片內(nèi)的電流并成光,功耗和升溫的問題都會(huì)大大改變,并且運(yùn)行速度提升1000倍以上,華為最近古仔研究的而手機(jī)芯片,就是這個(gè)。
這一點(diǎn)就能很好理解為什么小米11要設(shè)置一個(gè)4800毫安的大電池,并且把自己的無線充電技術(shù),以及快充技術(shù)搞到世界第一,小米手機(jī)能當(dāng)冬天的暖寶寶,不是沒有道理的。
異常升溫和功耗過快的問題,追溯下來,最后還是歸結(jié)到芯片上,iPhone12這邊,在網(wǎng)絡(luò)切換的時(shí)候,夜壺出現(xiàn)功耗加快的問題,有的用戶手機(jī)時(shí)間稍微長一點(diǎn)就會(huì)發(fā)熱,這并不是iPhone手機(jī)應(yīng)有的表現(xiàn)。
盡管如此也要比驍龍888好上許多,為驍龍888代工的三星成了這次翻車事件新的主體,三星真的有實(shí)力代工5nm芯片嗎?網(wǎng)友質(zhì)疑。
三星的5nm芯片工藝制程究竟表現(xiàn)如何:自家都在用
關(guān)于三星5nm工藝制程的質(zhì)量問題,既然三星用的都是自家的芯片,驍龍888的制造技藝也不該受到懷疑,但是三星3nm與3nmplus的工藝制程卻不得不讓讓人覺得是謊言。
在臺(tái)積電宣布3nm工藝制程的時(shí)候,三星緊急表示會(huì)跟上臺(tái)積電的步子,我們也有3nm芯片,盡管如此,臺(tái)積電3nm訂單接滿的時(shí)候,三星依舊沒有得到一個(gè)訂單。
三星與臺(tái)積電的差距是多大沒有人清楚,但是落后了臺(tái)積電一年左右的5nm工藝,竟然馬上就跟上了臺(tái)積電3nm的工藝制程,要知道,制造工藝可是一步步腳踏實(shí)地完成的。
另一方面,不管臺(tái)積電和三星的工藝制程有多么先進(jìn),他們經(jīng)手的5nm芯片全部翻車,依舊有不可推卸的責(zé)任,臺(tái)積電和三星擔(dān)心的是,這場芯片危機(jī)怎么度過,到了3nm的時(shí)候該這么辦。
芯片危機(jī)如何度過,需要多方面的努力
5nm芯片集體翻車,全都敗在了功耗和異常升溫上面,功耗上升、溫度提高,這種類似的事情,24nm芯片向20nm過渡的時(shí)候出現(xiàn)過,12nm,14nm向7nm過渡的時(shí)候也出現(xiàn)過。
這一次7nm向5nm過渡顯然還是失敗了,究竟該怎么辦,芯片危機(jī)本身的問題是芯片材料極限的問題,以及芯片內(nèi)部的排列和運(yùn)行問題,這三個(gè)問題都需要解決。
既然芯片材料出了問題,我們就改用碳基芯片;既然是芯片內(nèi)部晶體管的排列出了問題,那么芯片制造手藝也要改變,生產(chǎn)芯片專用的光刻機(jī)也要進(jìn)行升級改造,這樣才能全面解決這個(gè)問題。
對于臺(tái)積電和三星來說,他們可以用ASML最新的NA EUV 光刻機(jī),依靠自己手的3nm工藝制程去生產(chǎn)5nm芯片,隔代生產(chǎn),或許才是最好的選擇。
芯片危機(jī)的出現(xiàn),意味著摩爾定律的失效
關(guān)于芯片內(nèi)部運(yùn)行的問題,就只有采用光子芯片來解決了,但是采用光子芯片意味著指導(dǎo)了半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)七八十年的摩爾定律將宣布失效,報(bào)道體進(jìn)入一個(gè)全新的發(fā)展階段。
光子芯片之前有提過,就是將芯片內(nèi)的電流并成光,功耗和升溫的問題都會(huì)大大改變,并且運(yùn)行速度提升1000倍以上,華為最近古仔研究的而手機(jī)芯片,就是這個(gè)。
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